[发明专利]确定雷达物位计系统的干扰回波分布的方法有效
申请号: | 200980120135.9 | 申请日: | 2009-04-28 |
公开(公告)号: | CN102047082A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | H·德琳 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙特雷达液位股份公司 |
主分类号: | G01F23/284 | 分类号: | G01F23/284;G01F25/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 高青 |
地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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摘要: | 一种确定包含在储罐中的产品的填充物位的方法,所述方法包含:生成和发射电磁信号;向包含在储罐中的产品的表面传播发射的电磁信号;接收在发射电磁信号所遇到的阻抗转变处的反射所引起的回波信号,包括在所述产品的表面处的反射所引起的表面回波信号;使用发射电磁信号在基准阻抗转变处的反射所引起的基准回波信号来确定基准阻抗转变处的位置;根据基准阻抗转变处的确定位置和基准阻抗转变处的已知位置来确定位于表面上方的更新物位;使用发射信号在位于更新物位上方的至少一个阻抗转变处的反射所引起的至少一个回波信号来确定干扰回波分布;以及根据接收的回波信号和干扰回波分布来确定填充物位。 | ||
搜索关键词: | 确定 雷达 物位计 系统 干扰 回波 分布 方法 | ||
【主权项】:
一种确定包含在储罐中的产品的填充物位的方法,所述方法包含:生成和发射电磁信号;向包含在储罐中的产品的表面传播所述发射电磁信号;接收由所述发射电磁信号所遇到的阻抗转变处的反射引起的回波信号,所述回波信号包括由所述产品的表面处的反射引起的表面回波信号;使用所述发射电磁信号在基准阻抗转变处的反射所引起的基准回波信号,来确定所述基准阻抗转变处的位置;根据基准阻抗转变处的确定位置和基准阻抗转变处的已知位置,来确定位于所述表面上方的更新物位;使用所述发射信号在位于所述更新物位上方的至少一个阻抗转变处的反射所引起的至少一个所述回波信号,来确定干扰回波分布;以及根据所述接收的回波信号和所述干扰回波分布来确定所述填充物位。
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