[发明专利]气体阻隔性膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200980120136.3 申请日: 2009-03-31
公开(公告)号: CN102046376A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 风藤修;南叶道之;太田俊一;伊藤孝文 申请(专利权)人: 可乐丽股份有限公司
主分类号: B32B27/18 分类号: B32B27/18;B32B27/30;C08J7/04;C08K3/34;C08L29/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 郭煜;郭文洁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种气体阻隔性膜,其在基材(D)上的至少一面上具有包含树脂组合物(C)的层,所述树脂组合物(C)含有水溶性或水分散性聚合物(A)和膨润性无机层状硅酸盐(B),其中,使用满足下式(1)、(2)的膨润性无机层状硅酸盐(B)组合物,11.0≥D≥2.0μm (1);σ≥1.8μm (2);其中,D和σ是利用激光衍射方式测定的膨润性无机层状硅酸盐(B)的对数平均粒径和其粒度分布的标准偏差。由此,可以提供含有树脂组合物层的气体阻隔性膜、和该树脂组合物层表面的凹凸极少的多层阻隔膜的制造方法,所述树脂组合物层具有极其优异的气体阻隔性、分散有膨润性层状无机硅酸盐。
搜索关键词: 气体 阻隔 及其 制造 方法
【主权项】:
气体阻隔性膜,其特征在于,在基材(D)上的至少一面上具有包含树脂组合物(C)的层,所述树脂组合物(C)含有水溶性或水分散性聚合物(A)和满足下式(1)、(2)的膨润性无机层状硅酸盐(B),11.0≥D≥2.0μm  (1)σ≥1.8μm       (2)其中,D和σ是利用激光衍射方式测定的膨润性无机层状硅酸盐(B)的对数平均粒径和其粒度分布的标准偏差。
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