[发明专利]使用锡焊膏进行的基板与焊件的接合方法有效
申请号: | 200980120436.1 | 申请日: | 2009-06-12 |
公开(公告)号: | CN102047397A | 公开(公告)日: | 2011-05-04 |
发明(设计)人: | 石川雅之;中川将 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01L21/52 | 分类号: | H01L21/52;B23K3/06;B23K35/26;B23K35/30;C22C5/02;C22C11/06;C22C13/00;C22C13/02;H05K3/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 吴娟;高旭轶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在使用该锡焊膏进行的基板与焊件的接合方法中,在形成于上述基板上的金属化镀层与形成于上述焊件上的金属化镀层之间搭载或涂抹上述锡焊膏,然后在非氧化性气氛中进行回流焊处理,将上述基板与上述焊件接合。在上述基板的表面上形成的上述金属化镀层具有平面形状,该平面形状包含面积比上述焊件的上述金属化镀层面积小的金属化镀层本体部分和自上述金属化镀层本体部分的周围突出的锡焊引导部。 | ||
搜索关键词: | 使用 锡焊膏 进行 接合 方法 | ||
【主权项】:
使用锡焊膏进行的基板与焊件的接合方法,该方法具有以下步骤:在形成于上述基板上的金属化镀层和形成于上述焊件上的金属化镀层之间搭载或涂抹上述锡焊膏的步骤;和在非氧化气氛中将它们进行回流焊处理,使锡焊熔融,通过锡焊使上述基板与上述焊件接合的步骤,该方法的特征在于:形成于上述基板上的上述金属化镀层具有平面形状,该平面形状包含面积比上述焊件的上述金属化镀层面积小的金属化镀层本体部分和自上述金属化镀层本体部分的周围突出的锡焊引导部。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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