[发明专利]防粘衬层组合物,基础材料和生产基础材料的方法,和基础材料的表面处理剂和表面处理剂的用途有效

专利信息
申请号: 200980120941.6 申请日: 2009-05-18
公开(公告)号: CN102056994A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: K·科斯基南;M·里萨南;P·塔尼;J·基维瓦萨拉;T·科斯基南;H·科索南;L·波约拉;J·萨里南;J·塞帕拉;A·萨尔米南 申请(专利权)人: 芬欧汇川集团公司
主分类号: C09D5/00 分类号: C09D5/00;C09D201/02;C09D101/02;C09D103/02;C09D103/06;C09D103/08;C09D105/08;C09D129/04;C09D133/26;C09D139/02;C09D171/02;C08J7/04;C09J7/0
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 段晓玲;李连涛
地址: 芬兰赫*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 发明涉及防粘衬层组合物,其中在硅酮涂层和表面处理层之间已改进硅酮的粘合性,因此防止了硅酮擦去。粘合性的改进是基于一种聚合物表面处理剂结构,后者包括与基材和/或基材表面上的涂层相容的结构部分或可与硅酮涂层反应或至少与硅酮涂层相容的结构部分。本发明还涉及基础材料和生产基础材料的方法,以及用于基础材料的表面处理剂和表面处理剂的用途。
搜索关键词: 防粘衬层 组合 基础 材料 生产 方法 表面 处理 用途
【主权项】:
1.表面处理剂,其特征在于它包括骨架聚合物,在其上已连接了-选自于具有以下通式的结构中的侧基或端基(I)R1R3R4O-,其中R1形式的醛或酮,形式的硅烷氢化物或CR52=CR2形式的不饱和结构,其中R2和R5表示H,C1...C20烷基链,C1...C20烯基链,C1...C20脂肪酸链,或C1...C10脂肪酸酯链,R3表示线性或支化的、取代或未取代的C1...C20烷基或烯基链或-OSiR26O基团,其中R6表示羟基、C1...C20烷基或烷氧基链,和R4表示羰基(C=O),(II)R1R3O-,其中R1形式的醛或酮,形式的硅烷氢化物或CR52=CR2形式的不饱和结构,其中R2和R5表示H,C1...C20烷基链,C1...C20烯基链,C1...C20脂肪酸链,或C1...C10脂肪酸酯链,R3表示线性或支化的、取代或未取代的C1...C20烷基或烯基链或-OSiR26O基团,其中R6表示羟基、C1...C20烷基或烷氧基链,或-选自具有通式的一种或多种重复单元中的嵌段,其中R1表示C1...C20烷基链,烯基链或硅氧烷基团(-SiO-),R2和R3表示氢,羟基(-OH),硅烷氢化物基团C1...C20烷氧基,C1...C20烯基或不饱和C1...C20酰基。
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