[发明专利]制造电色装置的方法有效
申请号: | 200980121020.1 | 申请日: | 2009-05-22 |
公开(公告)号: | CN102057323A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 尼蒂·M·克里希纳;秉·圣·利奥·郭 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/15 | 分类号: | G02F1/15 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;王金宝 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明构思在电色装置制造中利用激光图案化/切割,其用于制造期间的任何地方且视为电色装置可制造性、产率、功能性的适当必要手段,同时整合激光切割以确保保护装置有源层,进而保证长期可靠性。设想激光直接移除(剥离)部件层材料而图案化电色装置的部件层。本发明包括制造电色装置的方法,包含一或多个聚焦激光图案化步骤。为最少化激光剥离材料再沉积和微粒形成在装置表面,可实行:(1)在装置材料的激光剥离附近用真空抽吸及/或惰性气体喷射以移除聚焦激光图案化产生的剥离材料;(2)空间上隔开各层边缘及在沉积上层前图案化下层;及(3)激光图案化步骤由直接聚焦在沉积层上方的激光束、导引穿过透明基板的激光束或二者组合来进行。 | ||
搜索关键词: | 制造 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种制造电色装置的方法,该方法包含:在透明基板上沉积第一透明导电层,随后沉积阴极;图案化所述第一透明导电层和所述阴极;沉积电解质层,随后沉积反电极层,接着沉积第二透明导电层;聚焦激光图案化所述电解质层、所述反电极层和所述第二透明导电层;沉积扩散阻障层;以及形成分离的电触点至所述第一透明导电层和所述第二透明导电层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司,未经应用材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980121020.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:制备冰冻固结磨料抛光垫的模具
- 下一篇:一种改进的球面双滚道修整器