[发明专利]用于过程压力测量的改进的隔离系统无效
申请号: | 200980121145.4 | 申请日: | 2009-06-03 |
公开(公告)号: | CN102057265A | 公开(公告)日: | 2011-05-11 |
发明(设计)人: | 大卫·A·布罗登 | 申请(专利权)人: | 罗斯蒙德公司 |
主分类号: | G01L9/00 | 分类号: | G01L9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘晓峰 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种过程流体压力变送器(10),包括压力传感器(16)、变送器电子组件(18)和隔离系统(14)。压力传感器(16)具有随着压力改变的电特性。变送器电子组件连接至压力传感器(16),用于感测所述电特性并计算压力输出。隔离系统(14)包括基底构件(30)、隔离膜(32)和填充流体(38)。隔离膜(32)安装至基底构件(30)并插入压力传感器(16)和过程流体之间。填充流体(38)位于隔离膜(32)和压力传感器(16)之间。基底构件(30)和隔离膜(32)由不同的材料构造而成,以使隔离膜(32)的热膨胀系数大于基底构件(30)的热膨胀系数。 | ||
搜索关键词: | 用于 过程 压力 测量 改进 隔离 系统 | ||
【主权项】:
一种过程流体压力变送器,包括:压力传感器,具有随着压力改变的电特性;变送器电子组件,连接至压力传感器,用于感测所述电特性并计算压力输出;和隔离系统,包括:基底构件,隔离膜,安装至基底构件并插入压力传感器和过程流体之间,填充流体,位于隔离膜和压力传感器之间,并且其中基底构件和隔离膜由不同的材料构造而成,并且其中隔离膜的热膨胀系数大于基底构件的热膨胀系数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗斯蒙德公司,未经罗斯蒙德公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980121145.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:微型光遮断器及其制作方法
- 下一篇:一种柔性光阴极及其制备方法