[发明专利]作为NK2受体拮抗剂的吡咯烷衍生物

摘要

本发明涉及式I化合物其中R¹是氢、卤素、氰基或低级烷基；n是1、2或3；R²是氢或低级烷基；R³是芳基-或杂芳基环，其中该环任选被1或2个取代基R’取代；R’选自氢、卤素、低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级烷氧基、-S(O)₂-低级烷基、CN、-NR⁴R⁵、-C(O)-低级烷基、杂环基或杂芳基；R⁴/R⁵彼此独立地是氢、-(CO)CF₃或低级烷基或是非芳族杂环基(II)，其中X是N或CH；Y是-CH(R⁷)-、-N(R^7’)-或O或可以是SO₂；R⁶是氢、低级烷基或羟基；R⁷是氢、羟基、＝O、低级烷基、低级烷氧基、-S(O)₂-低级烷基、-C(O)-低级烷基、-C(O)CH₂O-低级烷基、-CH₂CN、-C(O)CH₂CN、-C(O)-环烷基，其中环烷基任选被氰基、低级烷基、一或两个卤素原子、＝O或被氨基取代，或是-C(O)O-低级烷基、-NH-低级烷基、-NRC(O)O-低级烷基、-NRC(O)-低级烷基或-CH₂O-低级烷基；且R^7’是氢、低级烷基、-(CH₂)_q-S(O)₂-低级烷基、-(CH₂)_q-S(O)₂-环烷基、-C(O)-低级烷基、-(CH₂)_q-环烷基、-C(O)CH₂-O-低级烷基、-(CH₂)_qCN、-C(O)CN、-C(O)CH₂CN、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级链烯基、-C(O)-环烷基，其中环烷基任选被氰基、低级烷基、一或两个卤素原子、＝O或被氨基取代，或是-C(O)O-低级烷基或-(CH₂)_qO-低级烷基，且q是0-3；或R⁶和R⁷可以与它们连接的碳原子一起形成5或6元非芳族环，或R⁶和R^7’可以与它们连接的碳原子和氮原子一起形成5或6元非芳族环；p是0、1或2；Ar是芳基或杂芳基，其中该环任选被一个或两个取代基R”取代；R”选自氢、卤素、低级烷基、被卤素取代的低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷氧基、-O-CH₂-环烷基、-NR⁴R⁵、-CN、-CH(CH₃)CN、-CH₂O-低级烷基或吡咯基；m是0、1或2且o是0；o是0、1或2且m是1，或其药学活性盐、外消旋混合物、对映异构体、旋光异构体或互变异构形式。所述化合物可用于治疗抑郁、焦虑或精神分裂症。

主权项

1.式I化合物其中R¹是氢、卤素、氰基或低级烷基；n是1、2或3；R²是氢或低级烷基；R³是芳基-或杂芳基环，其中该环任选被1或2个取代基R’取代；R’选自氢、卤素、低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级烷氧基、-S(O)₂-低级烷基、CN、-NR⁴R⁵，-C(O)-低级烷基、杂环基或杂芳基；R⁴/R⁵彼此独立地是氢、-(CO)CF₃或低级烷基或是非芳族杂环基其中X是N或CH；Y是-CH(R⁷)-、-N(R^7’)-或O，或可以是SO₂；R⁶是氢、低级烷基或羟基；R⁷是氢、羟基、＝O、低级烷基、低级烷氧基、-S(O)₂-低级烷基、-C(O)-低级烷基、-C(O)CH₂O-低级烷基、-CH₂CN、-C(O)CH₂CN、-C(O)-环烷基，其中环烷基任选被氰基、低级烷基、1或2个卤素原子、＝O或被氨基取代，或是-C(O)O-低级烷基、-NH-低级烷基、-NRC(O)O-低级烷基、-NRC(O)-低级烷基或-CH₂O-低级烷基；且R^7’是氢、低级烷基、-(CH₂)_q-S(O)₂-低级烷基、-(CH₂)_q-S(O)₂-环烷基、-C(O)-低级烷基、-(CH₂)_q-环烷基、-C(O)CH₂-O-低级烷基、-(CH₂)_qCN、-C(O)CN、-C(O)CH₂CN、被卤素取代的低级烷基、被卤素取代的低级链烯基、-C(O)-环烷基，其中环烷基任选被氰基、低级烷基、1或2个卤素原子、＝O或被氨基取代，或是-C(O)O-低级烷基或-(CH₂)_qO-低级烷基且q是0-3；或R⁶和R⁷可以与它们连接的碳原子一起形成5或6元非芳族环，或R⁶和R^7’可以与它们连接的碳原子和氮原子一起形成5或6元非芳族环；p是0、1或2；Ar是芳基或杂芳基，其中该环任选被一个或两个取代基R”取代；R”选自氢、卤素、低级烷基、被卤素取代的低级烷基、低级烷氧基、被卤素取代的低级烷氧基、-O-CH₂-环烷基、-NR⁴R⁵、-CN、-CH(CH₃)CN、-CH₂O-低级烷基或吡咯基；m是0、1或2且o是0；o是0、1或2且m是1，或其药学活性盐、外消旋混合物、对映异构体、旋光异构体或互变异构形式。