[发明专利]重叠测量设备、光刻设备和使用这种重叠测量设备的器件制造方法有效
| 申请号： | 200980123676.7 | 申请日： | 2009-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN102067040A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | A·邓鲍夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 重叠测量设备具有偏振光源，用于用偏振光束照射样品，和光学系统，用以捕获由样品散射的光。光学系统包括偏振器，用于传送与偏振光束的偏振方向正交的正交偏振分量。检测器测量正交偏振分量的强度。连接至检测器的处理单元布置成使用从正交偏振分量得出的不对称数据处理重叠计算测量的正交偏振分量。 | ||
| 搜索关键词： | 重叠 测量 设备 光刻 使用 这种 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种重叠测量设备，包括：偏振光源，配置成用偏振光束照射样品；光学系统，配置成捕获由偏振光束引起的由样品散射的光，所述光学系统包括：偏振器，配置成透过与偏振光束的偏振方向正交的正交偏振分量，检测器，配置成测量所述正交偏振分量的强度并由其产生信号，和处理单元，配置成接收来自检测器的所述信号并使用从所述正交偏振分量得出的不对称数据来处理用于重叠度量测量的所述正交偏振分量。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980123676.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：无损检查数据可视化和分析
- 下一篇：快速反应NTC温度传感器及其制作方法
