[发明专利]使用多有源沟道层的薄膜晶体管有效

专利信息
申请号: 200980125524.0 申请日: 2009-06-19
公开(公告)号: CN102124569A 公开(公告)日: 2011-07-13
发明(设计)人: 彦·叶 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L21/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;钟强
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本文揭示的实施例大致上关于TFTs以及制造TFTs的方法。在TFTs中,有源沟道层携送电流于源极与漏极电极之间。通过调适有源沟道的组成,可以控制电流。有源沟道可以包含三层,即栅极控制层、体层及界面控制层。该些个别的层可以具有不同的组成。此外,栅极控制层、体层及界面控制层的各者可以包含多个具有不同组成的层。有源沟道的各层的组成包含氧、氮、以及选自由锌、铟、镉、锡、镓及其组合所组成群组的一或多个元素。通过改变该些层之间的组成,可以控制各层的迁移率、载流子浓度及导电率,以制造具有所希望性质的TFT。
搜索关键词: 使用 有源 沟道 薄膜晶体管
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包含:栅极介电层,其设置在栅极电极与基板上方;有源沟道,其耦接到该栅极介电层而与该基板相对,该有源沟道包含:一或多个栅极控制层,其包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第一组成,该一或多个栅极控制层的至少一者与该栅极介电层接触;一或多个体层,其与该一或多个栅极控制层的至少一者接触,该一或多个体层包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第二组成,该第二组成不同于该第一组成;以及一或多个背沟道界面控制层,其与该一或多个体层的至少一者接触,该一或多个背沟道界面控制层包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第三组成,该第三组成不同于该第一组成与该第二组成的一者或多者;以及源极与漏极电极,其耦接到该一或多个背沟道界面控制层的至少一者。
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