[发明专利]使用多有源沟道层的薄膜晶体管有效
申请号: | 200980125524.0 | 申请日: | 2009-06-19 |
公开(公告)号: | CN102124569A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | 彦·叶 | 申请(专利权)人: | 应用材料股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/786 | 分类号: | H01L29/786;H01L21/336;H01L21/02 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本文揭示的实施例大致上关于TFTs以及制造TFTs的方法。在TFTs中,有源沟道层携送电流于源极与漏极电极之间。通过调适有源沟道的组成,可以控制电流。有源沟道可以包含三层,即栅极控制层、体层及界面控制层。该些个别的层可以具有不同的组成。此外,栅极控制层、体层及界面控制层的各者可以包含多个具有不同组成的层。有源沟道的各层的组成包含氧、氮、以及选自由锌、铟、镉、锡、镓及其组合所组成群组的一或多个元素。通过改变该些层之间的组成,可以控制各层的迁移率、载流子浓度及导电率,以制造具有所希望性质的TFT。 | ||
搜索关键词: | 使用 有源 沟道 薄膜晶体管 | ||
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包含:栅极介电层,其设置在栅极电极与基板上方;有源沟道,其耦接到该栅极介电层而与该基板相对,该有源沟道包含:一或多个栅极控制层,其包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第一组成,该一或多个栅极控制层的至少一者与该栅极介电层接触;一或多个体层,其与该一或多个栅极控制层的至少一者接触,该一或多个体层包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第二组成,该第二组成不同于该第一组成;以及一或多个背沟道界面控制层,其与该一或多个体层的至少一者接触,该一或多个背沟道界面控制层包含氧、氮、以及选自由锌、铟、锡、镉与镓所组成群组的一或多个元素且具有第三组成,该第三组成不同于该第一组成与该第二组成的一者或多者;以及源极与漏极电极,其耦接到该一或多个背沟道界面控制层的至少一者。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司,未经应用材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980125524.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:控制充电垫系统的移动设备
- 下一篇:半导体装置及半导体装置的制造方法
- 同类专利
- 专利分类