[发明专利]用于有机EL元件的密封膜,有机EL元件以及有机EL显示器有效
| 申请号： | 200980125910.X | 申请日： | 2009-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN102077686A | 公开（公告）日： | 2011-05-25 |
| 发明（设计）人： | 安达和哉 | 申请（专利权）人： | 富士电机控股株式会社 |
| 主分类号： | H05B33/04 | 分类号： | H05B33/04;H01L51/50;H05B33/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 刘多益;王颖 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供一种用于有机EL元件的密封膜，该密封膜由于不存在针孔而具有极佳的耐湿性。本发明的密封膜是用于有机EL元件的密封膜，该密封膜具有至少由三层构成的层状结构，其中氮化硅膜和氧氮化硅膜交替层叠，该密封膜的特征是从有机EL元件侧数起的奇数层是膜厚度(T1)等于或大于200纳米的氮化硅膜，从有机EL元件侧数起的偶数层是膜厚度(T2)等于或大于20纳米且等于或小于50纳米的氧氮化硅膜。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 有机 el 元件 密封 以及 显示器 | ||
【主权项】：
一种用于有机EL元件的密封膜，所述密封膜具有至少由三层构成的层状结构，其中氮化硅膜和氧氮化硅膜交替层叠，所述密封膜的特征在于：从有机EL元件侧数起的奇数层是膜厚度T1等于或大于200纳米的氮化硅膜，从有机EL元件侧数起的偶数层是膜厚度T2等于或大于20纳米且等于或小于50纳米的氧氮化硅膜，以及最上层是氮化硅膜。
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