[发明专利]包含耐溅射材料的极端紫外线辐射反射元件有效
| 申请号： | 200980126444.7 | 申请日： | 2009-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN102138185A | 公开（公告）日： | 2011-07-27 |
| 发明（设计）人： | C·梅茨马歇尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 龚海军;刘鹏 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及改进的EUV反射元件，包括：a)第一层，基本上由高反射性材料制成；b)第二层，厚度≤5nm，基本上由耐溅射性≤10nm/108次射击的材料制成，并且由此第二层被设置在入射的和/或反射的EUV光的路径中。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 溅射 材料 极端 紫外线 辐射 反射 元件 | ||
【主权项】：
一种极端UV辐射反射元件，包括：a) 第一层，基本上由高反射性材料制成；b) 第二层，厚度≤5nm，基本上由耐溅射性≤10nm/108次射击的材料制成，并且其中，第二层被设置在入射的和/或反射的EUV光的路径中。
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