[发明专利]用于光刻设备的光学元件、包括这种光学元件的光刻设备以及制造该光学元件的方法有效
| 申请号： | 200980126677.7 | 申请日： | 2009-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN102089713A | 公开（公告）日： | 2011-06-08 |
| 发明（设计）人： | L·斯基马恩奥克;V·班尼恩;R·莫尔斯;D·克鲁什考沃;A·M·雅库尼恩 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备，包括光学元件，所述光学元件包括定向的碳纳米管薄层。所述光学元件具有大约20-500nm范围的元件厚度，并且在用EUV辐射垂直照射的条件下对波长范围为大约1-20nm的EUV辐射具有至少20％的透射率。定向的碳纳米管薄层本身可以用作光学元件，并且可以设计用以减少碎片和/或提高EUV与不想要的辐射的比值。薄层由于其强度不必需要支撑。本发明的光学元件可以是非支撑的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 光学 元件 包括 这种 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括光学元件，所述光学元件包括定向的碳纳米管薄层，所述光学元件具有大约20‑500nm范围内的元件厚度，并且在用EUV辐射垂直照射的条件下对波长范围为1‑20nm的EUV辐射具有至少20％的透射率。
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