[发明专利]流体处理系统在审

专利信息
申请号: 200980128268.0 申请日: 2009-07-15
公开(公告)号: CN102099105A 公开(公告)日: 2011-06-15
发明(设计)人: 迈克尔·萨斯格斯;吉姆·弗雷泽 申请(专利权)人: 特洛伊科技有限公司
主分类号: B01J19/12 分类号: B01J19/12;A23C3/07;A23L2/50;A23L3/26;C02F1/30;A61L2/08
代理公司: 上海市华诚律师事务所 31210 代理人: 梅高强
地址: 加拿大*** 国省代码: 加拿大;CA
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摘要: 说明了一种流体处理系统,在该流体处理系统中,待处理的流体在压力作用下被撞击至辐射发射表面。所述流体处理系统包含至少一个具有辐射发射表面的辐射源和至少一个具有流体排出开口的喷管元件,所述流体排出开口与所述辐射发射表面分隔开。所述流体排出开口构造成使待处理的流体撞击到所述辐射发射表面的至少一部分上。所述流体处理系统特别适于处理低透射率的流体。
搜索关键词: 流体 处理 系统
【主权项】:
一种流体处理系统,包含至少一个具有辐射发射表面的辐射源和至少一个具有流体排出开口的喷管元件,所述流体排出开口与所述辐射发射表面分隔开,所述流体排出开口构造成使待处理的流体碰撞到所述辐射发射表面的至少一部分上。
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