[发明专利]用于高生产量原子层沉积的设备和方法有效
申请号: | 200980128428.1 | 申请日: | 2009-05-20 |
公开(公告)号: | CN102112659A | 公开(公告)日: | 2011-06-29 |
发明(设计)人: | 恩斯特·H·A·格兰内曼;赫伯特·特霍斯特 | 申请(专利权)人: | 阿斯莫国际公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/455 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 余刚;吴孟秋 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种用于以连续方式沉积膜的原子层沉积设备。本设备包括向下倾斜的加工隧道,其在运输方向上延伸并且由至少两个隧道壁限定。这两个壁都具有多个气体注入通道,由此在运输方向上观看,至少一个壁中的气体注入通道分别相继连接到第一前体气体源、净化气体源、第二前体气体源和净化气体源,以形成这样的隧道区段,在使用中该隧道区段包括分别装有第一前体气体、净化气体、第二前体气体和净化气体的连续区域。加工隧道的向下坡度使得重力能够将受到浮动支撑的衬底驱动通过连续区段,导致膜原子层沉积到衬底上。 | ||
搜索关键词: | 用于 生产量 原子 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】:
一种原子层沉积设备(100),包括:加工隧道,所述加工隧道沿运输方向(104)延伸,并且至少由第一下部壁(110)和第二上部壁(120)限定,所述壁相互平行并且隔开,以允许平行于所述壁定向的基本平的衬底(130)容纳在它们之间;多个气体注入通道(112、122),设置在所述加工隧道的所述第一壁和所述第二壁中,并以隔开方式沿所述运输方向布置,由此所述第一下部壁中的气体注入通道(112)被构造成提供第一下部气体支承(113),而所述第二上部壁中的气体注入通道(122)被构造成提供第二上部气体支承(123),所述气体支承被构造成浮动地支持并容纳衬底;其中,在所述运输方向上观看,所述第一壁和所述第二壁中的至少一个壁中的气体注入通道相继连接到第一前体气体源、净化气体源、第二前体气体源和净化气体源,以形成隧道区段,在使用中所述隧道区段包括分别包含第一前体气体、净化气体、第二前体气体和净化气体的连续区域,其中,两个或两个以上的这样的隧道区段在所述运输方向上连续地布置,并且其中,在所述运输方向上观看,所述加工隧道的至少一部分具有向下的坡度(α),从而实现通过所述至少一个加工隧道部分进行衬底的重力驱动运输。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的