[发明专利]辐射源、光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200980128812.1 | 申请日： | 2009-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102105836A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | M·克拉森;R·格罗内维尔德;A·斯卓克肯;G·斯温克尔斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光刻设备(1)，包括：源模块(SO)，所述源模块包括收集器(CO)和辐射源(105)，所述收集器(CO)被配置成收集来自所述辐射源(105)的辐射；照射器(IL)，被配置成调节由所述收集器(CO)收集的辐射，且提供辐射束；和检测器(301)，设置成相对于所述照射器(IL)具有固定的位置关系，所述检测器(301)被配置成确定所述辐射源(105)相对于所述收集器(CO)的位置和所述源模块(SO)相对于所述照射器(IL)的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，所述光刻设备包括：源模块，所述源模块包括收集器和辐射源，所述辐射源被构造和布置以在使用中提供辐射发射等离子体，所述收集器被配置成收集来自所述辐射发射等离子体的辐射；照射器，所述照射器被配置成调节由所述收集器收集的辐射和提供辐射束；和检测器，所述检测器设置成相对于所述照射器具有固定的位置关系，所述检测器被配置成确定所述辐射发射等离子体相对于所述收集器的位置和所述源模块相对于所述照射器的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980128812.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
