[发明专利]聚焦和感测装置、方法和系统有效

专利信息
申请号: 200980130063.6 申请日: 2009-05-29
公开(公告)号: CN102112919A 公开(公告)日: 2011-06-29
发明(设计)人: 杰弗里·A·鲍尔斯;罗德里克·A·海德;爱德华·K·Y·荣格;约翰·布莱恩·彭德鲁;戴维·舒里希;戴维·R·斯密斯;克拉伦斯·特格林;托马斯·艾伦·韦弗;查尔斯·惠特默;小洛厄尔·L·伍德 申请(专利权)人: 希尔莱特有限责任公司
主分类号: G03B17/00 分类号: G03B17/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 李冬梅;郑霞
地址: 美国华*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 装置、方法和系统提供聚焦、调焦和感测。在一些方法中,调焦包括提供大于标称焦深的扩展的焦深。在一些方法中,聚焦包括负折射聚焦,其提供具有实质上大于一或实质上小于一的轴向放大的内部聚焦区。在一些方法中,聚焦和/或调焦包括使用转换媒介聚焦和/或调焦,其中转换媒介可包括人工构造的材料,例如超材料。
搜索关键词: 聚焦 装置 方法 系统
【主权项】:
一种电磁装置,包括:聚焦结构,其被定向成接收输入电磁能,并具有对输出电磁能的标称焦深;以及调焦结构,其布置成接收所述输出电磁能,并具有为所述输出电磁能提供大于所述标称焦深的扩展的焦深的电磁参数,所述电磁参数包括:轴向电磁参数;以及横向电磁参数,其逆向地相应于所述轴向电磁参数。
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