[发明专利]适用于火花蒸发的靶的应用以及适于此应用的靶的制备方法无效
申请号: | 200980132028.8 | 申请日: | 2009-08-10 |
公开(公告)号: | CN102124138A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | D·库拉波夫;M·莱赫塔勒 | 申请(专利权)人: | 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫) |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/06;C23C14/34;C23C14/08 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘维升;林森 |
地址: | 瑞士特*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本发明涉及一种应用靶的方法,该靶适于通过火花蒸发制备金属氧化物层和/或金属氮化物层的涂层工艺,其中该靶可在高于靶中所用金属的熔点的温度下运行,且其中该靶由其氧化物和/或氮化物是非导电性的金属制成。此外,本发明还涉及一种靶的应用,该靶用于通过火花蒸发制备金属氧化物层和/或金属氮化物层,其中该靶具有由金属制成的基质,其中引入有该金属的非导电的氧化物和/或氮化物。 | ||
搜索关键词: | 适用于 火花 蒸发 应用 以及 适于 制备 方法 | ||
【主权项】:
靶的应用,该靶用于火花蒸发涂层法中以制备金属氧化层和/或金属氮化物层,其中,应用一种靶,在该靶中该靶的金属的非导电氧化物和/氮化物引入该靶的金属基质中,且由此该靶可在高于靶中所用金属的熔点的温度下运行。
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