[发明专利]用于物理气相沉积的设备和方法无效
| 申请号： | 200980132064.4 | 申请日： | 2009-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN102124135A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | A·因斯佩克特;J·J·普里齐 | 申请（专利权）人： | 钴碳化钨硬质合金公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 邓斐 |
| 地址： | 美国宾*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于涂覆基体的物理气相沉积装置，该装置包括：一个接收该基体的基体保持件、以及发射出涂覆材料的发散性流束的一个涂覆材料源。该涂覆材料发散性流束包括一个涂覆材料发散部分以及一个涂覆材料的定向部分。该装置进一步包括一种遮挡装置，该遮挡装置被定位为与该涂覆材料源处于运作性接合，用于接收并且碰撞该涂覆材料发散性流束，这样使得该涂覆材料的定向部分离开该遮挡装置从而总体上朝向该基体保持件行进。该涂覆材料的定向部分与该涂覆材料的发散性流束相比展现出更小的发散性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 物理 沉积 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于涂覆基体的物理气相沉积装置，该装置包括：被适配为接收该基体的一个基体保持件；一个涂覆材料源，该涂覆材料源发射出一个涂覆材料发散性流束，该发散性流束包括一个涂覆材料的发散部分以及一个涂覆材料的定向部分；一个遮挡装置，该遮挡装置被定位为与该涂覆材料源进行运作性接合，用于接收并且撞击该涂覆材料发散性流束，这样使得该涂覆材料的定向部分离开该遮挡装置从而总体上朝向该基体保持件行进；并且该涂覆材料的定向部分与该涂覆材料发散性流束相比展现出更小的发散性。
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