[发明专利]光谱纯度滤光片、包括这样的光谱纯度滤光片的光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 200980132826.0 | 申请日： | 2009-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN102132213A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | W·A·索尔;M·M·J·W·范赫彭;M·J·J·杰克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光谱纯度滤光片包括孔阑。光谱纯度滤光片被配置成通过配置成吸收第一波长的辐射和允许第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔阑，来提高辐射束的光谱纯度。所述第一波长大于所述第二波长。光谱纯度滤光片可以用于改善极紫外(EUV)辐射束的光谱纯度。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 纯度 滤光 包括 这样 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光谱纯度滤光片，所述光谱纯度滤光片包括孔阑，所述光谱纯度滤光片配置成通过配置成吸收第一波长的辐射和允许第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔阑，来提高辐射束的光谱纯度，所述第一波长大于所述第二波长。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980132826.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
