[发明专利]光谱纯度滤光片和光刻设备有效
申请号: | 200980133185.0 | 申请日: | 2009-07-29 |
公开(公告)号: | CN102132214A | 公开(公告)日: | 2011-07-20 |
发明(设计)人: | M·M·J·W·范赫彭;W·A·索尔 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/08;G21K1/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王波波 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 一种光谱纯度滤光片(30)配置成反射极紫外辐射。所述光谱纯度滤光片(30)包括:基底(31);和抗反射涂层(32),所述抗反射涂层在所述基底(31)的顶表面上。所述抗反射涂层(32)配置成透射红外辐射。滤光片还包括多层堆叠体(33),所述多层堆叠体(33)配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射。 | ||
搜索关键词: | 光谱 纯度 滤光 光刻 设备 | ||
【主权项】:
一种光谱纯度滤光片,所述光谱纯度滤光片配置成反射极紫外辐射,所述光谱纯度滤光片包括:基底;抗反射涂层,所述抗反射涂层在所述基底的顶表面上,所述抗反射涂层配置成透射红外辐射;和多层堆叠体,配置成反射极紫外辐射和基本上透射红外辐射。
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