[发明专利]改进的纳米压印方法

摘要

本发明涉及一种将由抗蚀剂(2a，12a)制成的结构化的涂层涂覆至基底(6，16)表面上的方法。该方法包括：至少一个压印步骤，其中可流动的抗蚀剂(2，12)压印在压模(1，11)的结构化表面和支承体(3，13)之间以使压模表面有结构化的抗蚀剂(2，12)涂层；各后续的分离步骤，其中具有结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a，12a)的压模与具有抗蚀剂涂层的第二部分(2b，12b)的支持体彼此分离；后续的转移步骤，其中压模(1，11)表面上结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a，12a)压抵基底(6，16)表面上以将结构化的抗蚀剂涂层(2a，12a)转印到基底(6，16)表面；固化步骤，其中使结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a，12a)固化；脱模步骤，其中结构化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a，12a)与压模(1，11)分离。

主权项

一种将图案化的抗蚀剂涂层(2a，12a)涂覆至基底(6，16)表面上的方法，包括：至少一个压印步骤，其中将可流动的抗蚀剂(2，12)分别压印于压模(1，11)图案化的表面和载体(3，13)之间以使所述压模表面设置有图案化的抗蚀剂(2，12)表面，各后续的分离步骤，其中使具有所述图案化的抗蚀剂涂层的第一部分(2a，12a)的所述压模与具有所述抗蚀剂涂层的第二部分(2b，12b)的所述载体彼此分离；后续的转移步骤，其中将所述压模(1，11)表面上的所述图案化的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a，12a)压抵所述基底(6，16)的所述表面以将所述图案化的抗蚀剂涂层(2a，12a)转印到所述基底(6，16)的所述表面上；固化步骤，其中使所述图案化的抗蚀剂涂层(2a，12a)的所述第一部分(2a，12a)固化；脱模步骤，其中将所述图案化的抗蚀剂涂层的所述第一部分(2a，12a)与所述压模(1，11)分离。