[发明专利]用于无掩模光刻的聚焦斑点优化有效
| 申请号： | 200980134104.9 | 申请日： | 2009-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102132215A | 公开（公告）日： | 2011-07-20 |
| 发明（设计）人： | P·F·米开罗斯基 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 在投影系统的中继器(30)中优化诸如无掩模光刻投影系统的活动斑点阵列投影系统(18)的聚焦斑点(32)。频率调制器(70)位于中继器光瞳(68)附近，以重构聚焦斑点(32)并同时将聚焦斑点(32)成像在光敏基板(36)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 无掩模 光刻 聚焦 斑点 优化 | ||
【主权项】：
一种活动斑点阵列投影系统，包括：发光器，用于照射图案发生器的可寻址元件；成像器，用于将图案发生器的可寻址元件成像在相应聚焦元件上，所述相应聚焦元件形成可由图案发生器控制的图案中的聚焦斑点；中继器，用于将聚焦斑点的图案的图像中继到光敏基板上，每个聚焦斑点包含一范围的空间频率；以及在中继器光瞳附近的频率调制器，用于统一调制聚焦斑点的选定空间频率。
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