[发明专利]辐射系统和光刻设备无效
| 申请号： | 200980134829.8 | 申请日： | 2009-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN102144192A | 公开（公告）日： | 2011-08-03 |
| 发明（设计）人： | V·Y·班尼恩;E·R·鲁普斯特拉;V·V·伊万诺夫;V·M·克里夫特逊 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G21K1/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种辐射系统，配置成产生辐射束。所述辐射系统包括：辐射源(50)，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器(70)，配置成引导所收集的辐射至辐射束发射孔(60)。磁场产生装置(200)配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体引导离开辐射收集器(70)。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种辐射系统，配置成产生辐射束，所述辐射系统包括：辐射源，配置成产生发射辐射和碎片的等离子体；辐射收集器，用以引导所收集的辐射至辐射束发射孔；和磁场产生装置，配置成产生具有磁场强度梯度的磁场，以将等离子体引导离开所述辐射收集器。
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