[发明专利]具有光栅的集成电路及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200980135964.4 申请日: 2009-09-12
公开(公告)号: CN102150020A 公开(公告)日: 2011-08-10
发明(设计)人: 埃尔温·海鲁;马佳丽·兰姆伯特 申请(专利权)人: NXP股份有限公司
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/18;G01J3/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王波波
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明公开了一种集成电路(100),其包括:衬底(110),其承载有多个光敏元件(112);以及闪耀光栅(120),包括多个衍射元件(122),用于将入射光(150)的相应光谱分量(123-125)衍射至相应的光敏元件(112)上,所述闪耀光栅(120)包含多个叠层,这些叠层中的至少一些包括第一部分,例如金属部分所述第一部分排列为使得每一个衍射元件(122)具有堆叠的第一部分的阶梯剖面,其中较高层的第一部分横向地延伸超过所述阶梯剖面中较低层的第一部分。
搜索关键词: 具有 光栅 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
一种集成电路(100),包括:衬底(110),承载有多个光敏元件(112);以及闪耀光栅(120),包括多个衍射元件(122),用于将入射光(150)的相应光谱分量(123‑125)衍射至相应的光敏元件(112),所述闪耀光栅(120)包含层的堆叠,这些层中的至少一些包括第一部分和其他部分的交替图案,所述第一部分具有第一折射率,所述其他部分具有另一折射率,所述第一部分排列为使得每一个衍射元件(122)包括堆叠的第一部分的阶梯剖面,其中较高层中的第一部分横向地延伸超过所述阶梯剖面中的较低层中的第一部分。
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