[发明专利]电介质材料处理系统和操作方法有效
| 申请号： | 200980136347.6 | 申请日： | 2009-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN102159330A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 刘俊军;雅克·法戈特;埃里克·M·李;多雷尔·I·托玛;岳红宇 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05D3/06 | 分类号： | B05D3/06;C23C14/28;B05B5/025 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 王安武 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种用于固化衬底上的低介电常数(低k)电介质膜的系统，其中，低k电介质膜的介电常数小于约4的值。该系统包括一个或多个处理模块，所述处理模块构造为将低k电介质膜暴露于电磁(EM)辐射，例如红外(IR)辐射和紫外(UV)辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 电介质 材料 处理 系统 操作方法 | ||
【主权项】：
一种用于处理衬底上的电介质膜的处理模块，其包括：处理室；衬底支架，其连接到所述处理室，并构造成支承衬底；和辐射源，其连接到所述处理室，并构造成将所述电介质膜暴露于电磁(EM)辐射，其中，所述辐射源包括多个红外(IR)源、或多个紫外(UV)源、或多个IR源与多个UV源。
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