[发明专利]用于离子注入的可调整偏折光学组件无效
| 申请号： | 200980136381.3 | 申请日： | 2009-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102160139A | 公开（公告）日： | 2011-08-17 |
| 发明（设计）人： | 迈克·格拉夫;爱德华·艾伊斯勒;伯·范德伯格 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/147 | 分类号： | H01J37/147;H01J37/317 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种适用于离子注入系统的偏折构件(236)包含：多个电极(236a，236b)，其可选择性偏压以致使通过其的离子束弯曲、偏折、聚焦、会聚、发散、加速、减速及/或去污染。由于这些电极为可选择性偏压，且因此其中一个或多个是可维持未偏压或断电，束路径的有效长度是可如所期望而选择性调整(例如：基于诸如能量、剂量、物种等等的束性质)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 可调整 折光 组件 | ||
【主权项】：
一种离子注入系统，包含：离子束源，构成以产生离子束；质量分析器，用于对所产生的离子束质量分析；偏折构件，位于该质量分析器的下游且具有与其关联的偏折区域，用于偏折在质量分析后的离子束；及末端站，位于该偏折构件的下游且构成以支撑将由该离子束的离子所注入的工件；其中，配置该偏折构件以改变该偏折区域的长度。
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