[发明专利]由反应气体混合物在工件上淀积层膜的化学气相淀积反应器有效
| 申请号： | 200980137451.7 | 申请日： | 2009-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN102165099A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | M·奥格;R·博内蒂;H·斯特拉科夫 | 申请（专利权）人： | 爱恩邦德(瑞士奥尔顿)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/448;C23C16/455;C23C16/34;C23C16/36 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 赵辛;梁冰 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 瑞士;CH |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及由反应气体混合物在工件上淀积层膜的化学气相淀积反应器，包括：长条形竖立的反应室(10)，它由反应器壁板(11)和反应器底板(12)界定；用于使反应气体流入反应室(10)的进气管(34)，该进气管在该反应器底板(12)的区域内通入反应室(10)；用于使耗用反应气体从反应室(10)流出的固定不动的排气管(31)，该排气管在反应器底板区域内伸出该该反应室(10)；层状的工件支座(21)，它居中设置在反应室(10)中并能绕其中心轴线转动。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 气体 混合物 工件 上淀积层膜 化学 气相淀积 反应器 | ||
【主权项】：
一种用于在工件上由反应气体淀积层膜的化学气相淀积反应器，包括：长条形竖立的反应室(10)，它由反应器壁板(11)和反应器底板(12)界定，用于使反应气体流入该反应室(10)的进气管(34)，该进气管在该反应器底板(12)区域内通入该反应室(10)，用于使耗用反应气体从反应室(10)流出的固定不动的排气管(31)，该排气管在该反应器底板区域内伸出该该反应室(10)，层状的工件支座(21)，它设置在该反应室(10)中并能绕其中心轴线转动，其中该工件支座的中心轴线和该排气管的中心轴线重合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱恩邦德(瑞士奥尔顿)有限公司，未经爱恩邦德(瑞士奥尔顿)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980137451.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：内容播放装置
- 下一篇：在无线网络中管理自愈功能的方法和装置
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
