[发明专利]电容装置及谐振电路有效
| 申请号： | 200980137694.0 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN102165541A | 公开（公告）日： | 2011-08-24 |
| 发明（设计）人： | 管野正喜;横田敏昭;羽生和隆;渡边诚;佐藤则孝 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | H01G4/30 | 分类号： | H01G4/30;H01G4/255;H01G4/33;H01G7/06 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 陈桂香;武玉琴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明抑制了由于在介电体层两侧彼此相对的电极之间的位移而导致的电容变化，从而能够稳定地制造出具有所期望电容的电容装置。本发明的电容装置所具有的结构包括介电体层(10)、第一电极(11)以及第二电极(12)，所述第一电极(11)形成于所述介电体层(10)的预定表面(10a)上，所述第二电极(12)形成于所述介电体层(10)的与所述预定表面(10a)相对的那一侧的表面(10b)上。所述第一电极(11)及所述第二电极(12)的形状被设定成：即使在所述第一电极(11)相对于所述第二电极(12)沿着预定方向在位置上发生相对位移的情况下，所述第一电极(11)与所述第二电极(12)二者的对置电极区域的面积也不会改变。 | ||
| 搜索关键词： | 电容 装置 谐振 电路 | ||
【主权项】：
一种电容装置，包括：介电体层；第一电极，所述第一电极按照预定的第一形状形成于所述介电体层的预定表面上；以及第二电极，所述第二电极形成于所述介电体层的与所述预定表面相对的对置表面上，所述第二电极具有第一区域，所述第一区域与通过将所述第一电极投影到所述对置表面上而获得的投影图案重叠，并且，所述第二电极按照第二形状形成，使得即使当所述第一电极沿着所述预定表面内的预定方向经历相对位移时，所述第一区域的面积也不会改变。
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