[发明专利]用于动态控制的阶式旋流器有效

专利信息
申请号: 200980137770.8 申请日: 2009-08-05
公开(公告)号: CN102165262A 公开(公告)日: 2011-08-24
发明(设计)人: P.哈伯德 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: F23R3/14 分类号: F23R3/14;F23R3/28
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 薛峰
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 本申请描述了一种用于将介质喷射到涡轮中的旋流设备(100)。该旋流设备(100)包括中心轴线(106)、在沿中心轴线(106)的轴向方向上的中心通道(107)和外周界(108)。旋流设备(100)还包括第一管道(101)和第二管道(102)。第一管道(101)和第二管道(102)适于将介质从外周界(108)周围区域引导至中心通道(107)。第一管道(101)包括第一基础区域,其限定了垂直于中心轴线(106)的第一平面。第二管道(102)包括第二基础区域,其限定了垂直于中心轴线(106)的第二平面。第一管道(101)包括沿轴向方向的第一深度(d1),第二管道(102)包括沿轴向方向的第二深度(d2)。第一深度(d1)和第二深度(d2)不同。
搜索关键词: 用于 动态控制 阶式旋流器
【主权项】:
一种用于将介质喷射到涡轮中的旋流设备,其中,所述旋流设备(100)包括中心轴线(106)、在沿着所述中心轴线(106)的轴向方向上的中心通道(107)以及外周界(108),其中所述旋流设备(100)进一步包括:第一管道(101)和第二管道(102);其中,所述第一管道(101)和所述第二管道(102)适于将所述介质从所述外周界(108)周围的区域引导至所述中心通道(107);其中,所述第一管道(101)包括第一基础区域,该第一基础区域限定了垂直于所述中心轴线(106)的第一平面;其中,所述第二管道(102)包括第二基础区域,该第二基础区域限定了垂直于所述中心轴线(106)的第二平面;其中,所述第一管道(101)包括沿所述轴向方向的第一深度(d1),所述第二管道(102)包括沿所述轴向方向的第二深度(d2);其中,所述第一深度(d1)和所述第二深度(d2)不同。
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