[发明专利]微光刻投射曝光设备有效
| 申请号： | 200980138461.2 | 申请日： | 2009-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN102171615A | 公开（公告）日： | 2011-08-31 |
| 发明（设计）人： | 萨沙·布莱迪斯特尔;关彦彬;弗洛里安·巴赫;丹尼尔·本兹;塞韦林·沃尔迪斯;阿明·沃伯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B26/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 微光刻投射曝光设备具有反射镜阵列，反射镜阵列具有基体和多个反射镜单元，每个反射镜单元包括反射镜和固态关节，固态关节至少具有一个关节部件，该至少一个关节部件将反射镜连接到基体。控制装置使得可以改变各反射镜相对于基体的排列。反射镜与基体或连接到基体的反射镜支撑体的相对表面被设计为滑动支撑的相应滑动表面。 | ||
| 搜索关键词： | 微光 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
微光刻投射曝光设备，包括反射镜阵列，该反射镜阵列具有基体(548，912)和多个反射镜单元(510；610；910；1010)，其中每个反射镜单元包括：‑反射镜(514，914，1014)和‑控制装置(550，552，980)，构造为改变各个所述反射镜相对于所述基体的排列，其特征在于：所述反射镜(514，914，1014)与所述基体(912)或连接到所述基体(548，912)的反射镜支撑体(548，1012)的相对表面被设计为滑动支撑的相应滑动表面。
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