[发明专利]用于EUV微光刻的投射曝光设备的照明光学部件的场分面镜有效
| 申请号： | 200980138463.1 | 申请日： | 2009-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN102171616A | 公开（公告）日： | 2011-08-31 |
| 发明（设计）人： | 阿德里安.斯泰库;马丁.恩德雷斯 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 一种在用于EUV微光刻的投射曝光设备的照明光学部件中使用的场分面镜，用以将布置在物场中的物的结构传送到像场中。场分面镜(6)具有包含反射表面(22)的多个场面(18x)。所述场面(18x)彼此相邻的设置分布在基平面(xy)上。至少两个场面(18x)的反射表面(22)到基平面(xy)上的投影关于至少一个以下参数不同：尺寸、形状、定位。场分面镜确保均匀的物场照明以及高EUV通过量同时符合高要求。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 euv 微光 投射 曝光 设备 照明 光学 部件 场分面镜 | ||
【主权项】：
一种在用于EUV微光刻的投射曝光设备(1)的照明光学部件中使用的场分面镜(6)，用以将布置在物场(9)中的物的结构传送到像场(13)中，所述场分面镜(6)‑具有带有反射表面(22)的多个场面(18)；‑其中所述场面(18)被布置为使得所述场面(18)彼此相邻的布置分布在所述场分面镜(6)的基平面(xy)上，其特征在于至少两个所述场面(18)的所述反射表面(22)到所述基平面的投影关于以下至少一个参数不同：‑尺寸；‑形状；‑取向。
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