[发明专利]用于减少功率半导体接通过程中电磁放射的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200980140618.5 申请日: 2009-08-19
公开(公告)号: CN102177655A 公开(公告)日: 2011-09-07
发明(设计)人: S·亨布格尔 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: H03K17/16 分类号: H03K17/16;H03K17/567
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李少丹;李家麟
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提出一种用于在功率半导体(16)的接通过程中借助电流预控制(25)减少电磁放射的方法以及一种用于实施该方法的装置(10),其中,功率半导体(16)这样控制负载(12),使接通之后负载电流(IL、ID,3、ID,4)通过负载(12)和功率半导体(16)流动,其饱和值(ID,sat,3、ID,sat,4)确定功率半导体(16)的工作点,以及其中为负载电流(IL、ID,3、ID,4)不同的饱和值(ID,sat,3、ID,sat,4)产生功率半导体(16)的不同工作点。该方法的特征在于,通过电流预控制(25)预先规定的控制电流(IS、IG,3、IG,4)基本上划分成至少两个彼此相继的半波(44、46),其中针对功率半导体(16)相当于负载电流(ID,3)的最高饱和值(ID,sat,3)的工作点,当负载电流(IL、ID,3)大致达到了其最大值(ID,max,3)时,在第一半波(44)后跟随另一半波(46)。
搜索关键词: 用于 减少 功率 半导体 接通 过程 电磁 放射 方法 装置
【主权项】:
一种用于在功率半导体(16)的接通过程中借助电流预控制(25)减少电磁放射的方法,其中,所述功率半导体(16)控制负载(12),使得在接通之后负载电流(IL、ID,3、ID,4)流过负载(12)和功率半导体(16),所述负载电流的饱和值(ID,sat,3、ID,sat,4)确定所述功率半导体(16)的工作点,以及其中针对所述负载电流(IL、ID,3、ID,4)的不同饱和值(ID,sat,3、ID,sat,4)产生所述功率半导体(16)的不同工作点,其特征在于,通过电流预控制(25)预先规定的控制电流(IS、IG,3、IG,4)基本上划分成至少两个彼此相继的半波(44、46),其中针对所述功率半导体(16)的相当于负载电流(ID,3)的最高饱和值(ID,sat,3)的工作点,当所述负载电流(IL、ID,3)大致达到了其最大值(ID,max,3)时,则在第一半波(44)之后跟随另一半波(46)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗伯特·博世有限公司,未经罗伯特·博世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980140618.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top