[发明专利]含有含氮杂环结构的高分子化合物、以及含有该化合物的组合物、溶液、薄膜和高分子发光元件无效
申请号: | 200980140716.9 | 申请日: | 2009-09-25 |
公开(公告)号: | CN102186899A | 公开(公告)日: | 2011-09-14 |
发明(设计)人: | 石井佑典;小林重也;安立诚;三上智司 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C08G61/00 | 分类号: | C08G61/00;C07D251/24;C08L65/00;C09K11/06;H01L51/50 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: |
一种高分子化合物,具有式(1-0)表示的重复单元:式(1-0)中,环A01和环A02相同或不同,表示可以具有取代基的芳香烃环;X10和X20相同或不同,表示氢原子或者取代基;其中,X10和X20中的至少一方为式(2-0)表示的基团;式(2-0)中,Z10、Z20和Z30相同或不同,表示-N=或者-CH=;其中,Z10、Z20和Z30中的至少2个为-N=;L0表示亚芳基或者单键;Ar10和Ar20相同或不同,表示芳基;其中,Ar10、Ar20和L0表示的基团的碳数的合计为24以上。【化1】 |
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搜索关键词: | 含有 含氮杂环 结构 高分子化合物 以及 化合物 组合 溶液 薄膜 高分子 发光 元件 | ||
【主权项】:
1.一种高分子化合物,具有式(1-0)表示的重复单元:【化1】
式(1-0)中,环A01和环A02相同或不同,表示可以具有取代基的芳香烃环;X10和X20相同或不同,表示氢原子或者取代基;其中,X10和X20中的至少一方为式(2-0)表示的基团;【化2】
式(2-0)中,Z10、Z20和Z30相同或不同,表示-N=或者-CH=;其中,Z10、Z20和Z30中的至少2个为-N=;L0表示亚芳基或者单键;Ar10和Ar20相同或不同,表示芳基;其中,Ar10、Ar20和L0表示的基团的碳数的合计为24以上。
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