[发明专利]铜清洁及保护调配物有效
| 申请号： | 200980141809.3 | 申请日： | 2009-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN102197124A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 杰弗里·A·巴尼斯;布莱恩·贝纳科;卡尔·E·博格斯;丰琳;刘俊;梅里萨·A·佩特鲁斯卡;颜晓冬;张鹏 | 申请（专利权）人： | 高级技术材料公司 |
| 主分类号： | C11D1/62 | 分类号： | C11D1/62 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 刘慧;杨青 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于从其上含有化学机械抛光(CMP)后残留物及污染物的微电子器件清洁该残留物及污染物的清洁组合物及方法。该清洁组合物包括新的腐蚀抑制剂。该组合物实现高效清洁该微电子器件表面的CMP后残留物及污染物，且不会损及低k介电材料或铜互连材料。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 保护 调配 | ||
【主权项】：
清洁组合物，其包含至少一种溶剂、至少一种腐蚀抑制剂、至少一种胺及至少一种季碱，其中该腐蚀抑制剂包括选自以下的物质：核糖基嘌呤及其甲基化或脱氧衍生物；腺苷及腺苷衍生物的降解产物；嘌呤‑糖复合物；甲基化或脱氧嘌呤衍生物、及其反应或降解产物；及其组合。
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