[发明专利]等离子体处理装置

摘要

本发明的等离子体处理装置(10)具有：由真空容器构成的等离子体处理室(11)；在等离子体处理室(11)内以面对面方式立设的一对基体保持部(12)；在两个基体保持部(12)之间所设置的多个第一反应气体管(13)；在两个基体保持部(12)双方各自与第一反应气体管(13)之间所设置的多个第二反应气体管(14)。第一反应气体管(13)为导体制，与高频电源(151、152)连接。第二反应气体管(14)为导体制，经由匹配器与第一交流偏压电源(153)电连接。第一反应气体管(13)兼作高频天线，第二反应气体管(14)兼作电极。

主权项

一种等离子体处理装置，其特征在于，具有：a)等离子体处理室；b)在所述等离子体处理室内所设置的基体保持部；c)在所述等离子体处理室内与所述基体保持部隔离地配置的高频天线；d)在所述高频天线和所述基体保持部之间所设置的、且等离子体可以通过的电极；e)向所述电极和所述基体保持部之间施加电压的电压施加机构；f)向比所述电极更靠所述高频天线侧供给第一反应气体的第一反应气体供给口；g)向所述电极和所述基体保持部之间供给第二反应气体的第二反应气体供给口。