[发明专利]用于原子层沉积的装置和方法有效
| 申请号： | 200980142914.9 | 申请日： | 2009-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN102197157A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 迪德瑞克·简·马斯;鲍勃·凡·索美伦;阿克赛尔·塞巴斯蒂安·莱克斯蒙德;卡罗勒斯·艾达·玛丽亚·安东尼乌斯·斯佩;安东尼·埃勒特·杜伊斯特温克尔;阿德里亚努斯·约翰内斯·柏图斯·玛丽亚·维梅尔 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于在衬底(6)的表面(4)上进行原子层沉积的装置(2)。该装置(2)包括前驱体注入头(10)，该前驱体注入头(10)包括前驱体供给源(12)和在使用中由前驱体注入头(10)和衬底表面(1)来界定的沉积空间(14)。前驱体注入头(10)设置为可将前驱体气体从前驱体供给源(12)注入到沉积空间(14)中以与衬底表面(4)接触。该装置(2)设置为可在沉积空间(14)和衬底(6)之间在衬底表面(4)的平面中提供相对运动。该装置(2)具有限制结构(26)，其设置为可将所注入的前驱体气体限制在与衬底表面(4)相邻的沉积空间(14)中。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 原子 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
用于在衬底的表面上进行原子层沉积的装置，该装置包括前驱体注入头，所述前驱体注入头包括前驱体供给源以及在使用中由前驱体注入头和衬底表面来界定的沉积空间，其中所述前驱体注入头设置为将前驱体气体从前驱体供给源注入到沉积空间中以与衬底表面接触，所述装置设置为能在沉积空间和衬底之间在衬底表面的平面中提供相对运动，并且所述装置具有设置为将所注入的前驱体气体限制在与衬底表面相邻的沉积空间中的限制结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于荷兰应用自然科学研究组织TNO，未经荷兰应用自然科学研究组织TNO许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980142914.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
