[发明专利]磁构图方法和系统无效
| 申请号： | 200980143654.7 | 申请日： | 2009-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN102300800A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 龙·纳曼;A·巴尔达;A·尤夫埃 | 申请（专利权）人： | 曳达研究和发展有限公司 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 李辉;宋教花 |
| 地址： | 以色列*** | 国省代码： | 以色列;IL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于对基板进行构图的方法和装置。该方法包括以下步骤：提供至少一个磁性图案生成器(100b)，该至少一个磁性图案生成器被配置为可操作用于根据期望图案调制磁场，以使磁场改变磁性能；在所述基板(102)附近施加经调制的磁场，在所述基板顶部形成要获得的相互作用区域的特定图案；以及使所述基板与磁性粒子(106)相互作用，同时在所经调制的磁场的施加下，所述磁性粒子被吸引到所述特定图案限定的选定相互作用区域，同时基本不被吸引到该相互作用区域外部的区域，由此在所述基板的顶部形成与所述磁性粒子相互作用的区域的所述特定图案。所述期望图案对应于针对预定磁场分布曲线、并位于距样本所位于的所述磁性图案生成器预定距离处的所述特定图案。 | ||
| 搜索关键词： | 构图 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种对基板进行构图的方法，该方法包括以下步骤：提供至少一个磁性图案生成器，该至少一个磁性图案生成器被配置为可操作用于根据期望图案调制磁场，以使所述磁场的磁性能改变；在所述基板附近施加经调制的磁场，由此在所述基板顶部生成要获得的相互作用区域的特定图案；以及使所述基板与磁性粒子相互作用，同时在施加所述经调制的磁场的情况下，所述磁性粒子被吸引到所述特定图案所限定的选定相互作用区域，同时基本不被吸引到所述相互作用区域外部的区域，由此在所述基板的顶部形成与所述磁性粒子相互作用的区域的所述特定图案。
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