[发明专利]具有圆形地对称于溅射靶材的RF及DC馈给的物理气相沉积反应器

摘要

在顶壁处具有溅射靶材的PVD反应器中，包围旋转磁体组件的导电外壳具有一中央开口，以容纳该旋转磁体轴。该外壳的导电中空圆筒环绕着该轴的外部部份。射频功率源耦合至一径向射频(RF)连接杆，该射频连接杆从该中空圆筒径向地延伸出。直流功率源耦合至另一径向直流(DC)连接杆，该直流连接杆从该中空圆筒径向地延伸而出。

主权项

一种等离子体反应器，包括：反应腔室，其包含顶壁、溅射靶材及晶片支撑基座，该溅射靶材邻近该顶壁，该晶片支撑基座位于该腔室中且面对该溅射靶材；导电外壳，位于该顶壁上方且具有顶盖，该顶盖面对该顶壁；旋转磁体组件，其被容纳在该外壳中并且包含旋转轴、径向手臂组件及磁体，该径向手臂组件在其内端处耦合至该旋转轴，且该磁体耦合至该径向手臂组件的外端，该外壳的顶盖包含中央开口，该旋转轴轴向地延伸通过该中央开口；导电中空圆筒，位于该顶盖上并且围绕着该旋转轴延伸在该顶盖上方的一部份；径向射频连接杆，从该中空圆筒径向地延伸出；以及射频功率源，其包含射频产生器及射频阻抗匹配器，该阻抗匹配器连接至该射频连接杆的外端。