[发明专利]用于通过干涉法光学测量对象厚度的方法、测量配置以及设备有效

专利信息
申请号: 200980145472.3 申请日: 2009-11-13
公开(公告)号: CN102216727A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: F·齐普兰维 申请(专利权)人: 马波斯S.P.A.公司
主分类号: G01B11/06 分类号: G01B11/06
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 江娟;南毅宁
地址: 意大利*** 国省代码: 意大利;IT
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摘要: 用于通过干涉法光学测量对象(2)的厚度的方法、测量配置(23;26;27)以及设备(1),所述对象(2)具有外表面(16)以及与该外表面(16)相对的内表面(17)。通过放射源(4a,4b;4c,4d;4ef)或单个宽频带放射源来发射低相干射线(I)束,此射线束具有确定频带内的多个波长,所述放射源(4a,4b;4c,4d;4ef)可根据对象厚度,交替采用属于不同频带的至少两个不同的射线束。通过光学探测器(6),所述射线束被指向所述对象的外表面。通过光学探测器捕捉由所述对象反射的射线(R)。通过分光计(5;5a,5b;5d,5e;5f,5g),可对由所述外表面所反射的未进入所述对象的射线(R1)与由所述内表面所反射的进入所述对象的射线(R2)之间的干涉结果的光谱进行分析;以及,根据所述分光计所提供的光谱,确定所述对象的厚度。两个分光计可交替用于属于所述不同频带的每一频带的射线。
搜索关键词: 用于 通过 干涉 光学 测量 对象 厚度 方法 配置 以及 设备
【主权项】:
用于通过干涉法光学测量对象厚度的方法,所述对象的特征在于具有外表面以及与该外表面相对的内表面,该方法包括以下阶段:通过至少一个放射源,发射具有确定频带内的多个波长的低相干射线束;通过至少一个光学探测器,将所述射线束指向所述对象的外表面;通过所述至少一个光学探测器,聚集由所述对象反射的射线;通过至少一个分光计,对由所述外表面反射而未进入所述对象中的射线与由所述内表面反射并进入所述对象中的射线之间的干涉结果的光谱进行分析;以及根据由所述至少一个分光计所提供的光谱的函数,确定所述对象的厚度;该方法的特征在于:采用属于不同频带的至少两个不同的射线束、或采用了至少两个分光计,来分析具有实质上属于所述不同频带的具有不同波长的射线的所述干涉结果的光谱。
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