[发明专利]快速自由形式源和掩模共同优化方法

摘要

本发明涉及光刻设备和过程，尤其涉及用于优化用在光刻设备和过程中的照射源和掩模的工具。根据特定的方面，本发明通过允许直接计算成本函数的梯度，显著地加速了所述优化的收敛。根据其它的方面，本发明允许同时优化源和掩模，由此显著地加速了整体的收敛。根据又一另外的方面，本发明允许自由形式的优化，且没有通过传统的优化技术所要求的限制。

主权项

一种用于优化光刻过程的方法，包括步骤：接收对照射源和掩模的描述，所述掩模包括光刻图案；和选择性地重复所述以下步骤直到所述源和掩模被同时对于所述光刻过程的过程窗口优化为止：形成作为所述照射源和掩模的函数的成本函数；计算所述成本函数的梯度，和依赖于所计算的梯度重新配置所述源和掩模描述。