[发明专利]光刻设备、辐射系统、器件制造方法以及碎片减少方法有效
| 申请号： | 200980146059.9 | 申请日： | 2009-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN102216853A | 公开（公告）日： | 2011-10-12 |
| 发明（设计）人： | O·弗里基恩斯;J·弗兰肯;K·杰里森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻设备，包括辐射系统，用于通过辐射源发射的辐射提供辐射束。辐射系统包括用于捕获从辐射源发射的材料的污染物阱(8)。旋转污染物阱包括多个元件(11)，所述多个元件从公共的旋转捕获轴线(A)沿径向方向(Ra)延伸并且布置用于在辐射束在辐射系统内传播期间允许从辐射源发出的污染物材料沉积。辐射系统还包括用于接收来自旋转阱元件的污染物材料颗粒的污染物捕集器(12；27，28)，污染物捕集器具有在辐射系统操作期间用于保留所述污染物材料颗粒的构造。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 辐射 系统 器件 制造 方法 以及 碎片 减少 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：辐射系统，用于通过辐射源发射的辐射提供辐射束，辐射系统包括布置在辐射束的路径中的用于捕获从辐射源发出的材料的旋转污染物阱，旋转污染物阱包括多个元件，所述多个元件从公共的旋转捕获轴线沿径向方向延伸并且布置成在辐射束在辐射系统内传播期间允许从辐射源发出的污染物材料沉积，其中辐射系统还包括用于接收来自污染物阱元件的污染物材料颗粒的污染物捕集器，污染物捕集器具有在辐射系统操作期间用于保留所述污染物材料颗粒的构造；照射系统，配置成调节辐射束；支撑结构，构造成支撑图案形成装置，图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化辐射束；衬底台，构造成保持衬底；和投影系统，配置成将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上。
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