[发明专利]光敏性组合物

摘要

本发明涉及新型光敏性组合物，其包含a)有机聚合物，b)结构(1)的光碱产生剂，和c)任选地，光酸产生剂，(⁺A₁^-O₂C)-B-(CO₂^-A₂⁺)_X，其中A₁⁺和A₂⁺独立地是阳离子，x是大于或等于1的整数，B是非氟化烃结构部分。所述光敏性组合物可以用作光致抗蚀剂组合物或用作碱可显影抗反射底层涂料组合物。

主权项

1.对曝光辐射敏感的光敏性组合物，其包含：a)有机聚合物，b)结构(1)的光碱产生剂，和c)任选地，光酸产生剂(⁺A₁^-O₂C)-B-(CO₂^-A₂⁺)_X    (1)其中A₁⁺和A₂⁺独立地是阳离子，x是大于或等于1，B是非氟化有机结构部分。