[发明专利]用于改善平版印刷版的成像和非成像区域的划痕敏感性的具有纳米颗粒的上胶组合物无效
| 申请号： | 200980147554.1 | 申请日： | 2009-12-02 |
| 公开（公告）号： | CN102227685A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | C·萨瓦里阿-豪克;J·彭勒 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | G03F7/32 | 分类号： | G03F7/32;B41N3/08;G03F7/40 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及改善平版印刷版的抗刮性的方法，其包括：在经曝光并任选经显影的平版印刷版上施加水性组合物，所述水性组合物包含无机的非金属惰性颗粒，所述颗粒由二氧化硅、氧化铝或二氧化钛组成，其平均粒径为1nm-0.5μm。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 平版印刷 成像 区域 划痕 敏感性 具有 纳米 颗粒 组合 | ||
【主权项】：
改善平版印刷版的抗刮性的方法，其包括：(a)将平版印刷版前体进行成像曝光，(b)在曝光后任选将所述前体显影，(c)将水性组合物施加在成像的平版印刷版前体上，所述水性组合物包含无机的非金属惰性颗粒，所述颗粒由二氧化硅、氧化铝或二氧化钛组成，且其平均粒径为1nm‑0.5μm。
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