[发明专利]使用具有分等级的光学性质的底部抗反射涂层来执行光刻的方法有效
| 申请号： | 200980147846.5 | 申请日： | 2009-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102227683A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | 托马斯·I·瓦洛;容沃尔克·基 | 申请（专利权）人： | 超威半导体公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 周文强;李献忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供的是使用具有分等级的光学性质的BARC的光刻方法。在示例性的实施方式中，光刻方法包含如下步骤，即，使上覆于待图案化的材料的BARC沉积，该BARC具有折射率和吸光度。修改该BARC，以便在该修改步骤之后，该折射率和该吸光度的值从在该BARC的第一表面处的第一值到在该BARC的第二表面处的第二值分等级。该修改步骤在该沉积步骤之后执行。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 具有 分等级 光学 性质 底部 反射 涂层 执行 光刻 方法 | ||
【主权项】：
一种执行光刻的方法，所述方法包含以下步骤：使上覆于待图案化的材料的底部抗反射涂层沉积，所述底部抗反射涂层具有折射率和吸光度；以及修改所述底部抗反射涂层，以便在所述修改步骤之后，使所述折射率和所述吸光度的值从所述底部抗反射涂层的第一表面处的第一值到所述底部抗反射涂层的第二表面处的第二值分等级，其中，所述修改步骤在所述沉积步骤之后执行。
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