[发明专利]具有匀光功能的激光泵浦装置和激光泵浦方法

摘要

在用于强化激光束的激光工作物质的激光泵浦装置中，它包括至少一个具有用于产生部分泵浦光束(TPS1″，TPS2″)的多个发射极的激光泵浦源(1″)，通过耦合光学系统将该部分泵浦光束(TPS1″，TPS2″)导入匀光器(3″)并在那里在一个轴方向上通过多次反射充分混匀。在上述过程中，匀光器(3″)和激光工作物质如此设计和布置，由匀光器(3″)发出的泵浦光束在混匀轴(DA)方向上保持发散性的情况下被直接引导至激光工作物质之上或之中，其中该部分泵浦光束(TPS1″，TPS2″)在垂直于混匀轴(DA)的投影轴(PA)方向上被直接投影、尤其是聚焦到激光工作物质之中或之上。

主权项

一种产生用于强化激光束的激光工作物质(4，4′，4″)的椭圆形泵浦形状的激光泵浦装置，至少包括：‑激光泵浦源(1，1′，1″)，具有多个用于产生部分泵浦光束(TPS1，TPS2，TPS1′，TPS1″，TPS2′，TPS2″)的多个发射极，尤其是激光器二极管，用于泵浦所述激光工作物质(4，4′，4″)，‑光学匀光器(3，3′，3″，3″′，3″″)，用于在混匀轴(DA)方向上通过多次反射混匀所述部分泵浦光束(TPS1，TPS2，TPS1′，TPS1″，TPS2′，TPS2″)，‑在所述激光泵浦源(1，1′，1″)和匀光器(3，3′，3″，3″′，3″″)之间的耦合光学系统(2，2′，2″)，其特征在于，‑所述耦合光学系统(2，2′，2″)是如此设计和布置的，所述部分泵浦光束(TPS1，TPS2，TPS1′，TPS1″，TPS2′，TPS2″)在垂直于混匀轴(DA)的投影轴(PA)方向上直接投影到所述激光工作物质(4，4′，4″)之上或之中，尤其是被聚焦到其上或其中，‑所述匀光器(3，3′，3″，3″′，3″″)和所述激光工作物质(4，4′，4″)是如此设计和布置的，由所述匀光器(3，3′，3″，3″′，3″″)发出的泵浦光束在相对混匀轴(DA)保持发散性的情况下被直接引导至激光工作物质(4，4′，4″)之上或之中。