[发明专利]发光装置和具有至少一个这种发光装置的投影器有效
申请号: | 200980150254.9 | 申请日: | 2009-10-19 |
公开(公告)号: | CN102246527A | 公开(公告)日: | 2011-11-16 |
发明(设计)人: | 阿尔弗雷德·莱尔;松克·托茨;尤伟·斯特劳斯;马丁鲁道夫·贝林杰;斯蒂芬妮·布鲁宁戈夫;迪米特里·蒂尼;多米尼克·艾泽特;克里斯托夫·艾克勒 | 申请(专利权)人: | 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司 |
主分类号: | H04N9/31 | 分类号: | H04N9/31 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 许伟群;郭放 |
地址: | 德国雷*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 在发光装置(1)的至少一个实施形式中,该发光装置包含:至少一个半导体激光器(2),其构建为发射波长在360nm到485nm之间的初级辐射(P),其中包括边界值。此外,发光装置(1)包括至少一个转换装置(3),其设置在半导体激光器(2)之后并且构建为将初级辐射(P)的至少一部分转换为具有与初级辐射(P)不同的更大波长的次级辐射(S)。由发光装置(1)发射的辐射(R)具有最高为50μm的光学相干长度。 | ||
搜索关键词: | 发光 装置 具有 至少 一个 这种 投影 | ||
【主权项】:
一种发光装置(1),具有:‑至少一个半导体激光器(2),其构建为发射波长在360nm到485nm之间的初级辐射(P),其中包括边界值,以及‑至少一个转换装置(3),其设置在半导体激光器(2)之后并且构建为将初级辐射(P)的至少一部分转换为具有与初级辐射(P)不同的更大波长的次级辐射(S),其中由发光装置(1)发射的辐射(R)具有最高为50μm的光学相干长度。
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