[发明专利]具有减小的扫描场效应的离子注入有效
| 申请号： | 200980150790.9 | 申请日： | 2009-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN102257592A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 爱德华·艾伊斯勒 | 申请（专利权）人： | 艾克塞利斯科技公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 刘晓峰 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了离子注入系统和扫描系统，其中提供了聚焦调整部件用于调整离子束的聚焦性质，来减小扫描器在离子束上的零场效应。聚焦性质可以被调整，用于改善跨过工件扫描的束轮廓的一致性，或改善跨过工件的离子注入的一致性。本发明公开了将经扫描的离子束提供给工件的方法，包括扫描离子束以产生经扫描的离子束，关于扫描器在离子束上的零场效应调整离子束的聚焦性质，以及朝向工件引导离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 减小 扫描 场效应 离子 注入 | ||
【主权项】：
一种用于在工件中注入离子的离子注入系统，包括：离子束源，配置成产生离子束；质量分析装置，用于对产生的所述离子束进行质量分析；扫描器，配置成跨过所述工件扫描所述离子束；聚焦调整部件，包括配置成关于所述扫描器在所述离子束上的零场效应调整所述离子束的至少一个聚焦性质的调整场。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于艾克塞利斯科技公司，未经艾克塞利斯科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980150790.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种高纯度樱黄素的制备方法
- 下一篇：一种盘式过滤机专用滤布
