[发明专利]将高Z焦点轨迹层附着于用作旋转阳极靶的碳-碳复合衬底

摘要

本发明涉及在旋转阳极类型的X射线管中使用的混合阳极盘结构，并且，更具体地，涉及新型轻质阳极盘结构(RA)，该新型轻质阳极盘结构包括沉积于旋转X射线管的阳极靶(AT)上的粘附促进保护碳化硅(SiC)夹层(SCI)，其中，该阳极靶可以例如用碳-碳复合衬底(SUB’)制成。此外，提供一种用于将包括高Z材料的涂层(CL)(例如用钨铼合金制成的层)鲁棒地附着于所述阳极靶的表面上的制造方法，于是，根据所述方法，可以预见，在钨铼合金的沉积之前，将例如由钽(Ta)、铪(Hf)、钒(V)或铼(Re)层给予的难熔金属外涂层(RML)施加于碳化硅夹层(SCI)。因而，本发明充分利用热循环期间的碳化硅涂层的碳复合衬底(SUB’)的断裂的趋势，并且，通过联锁机制而提高碳化硅/难熔金属夹层与碳-碳复合衬底(SUB’)和焦点轨迹涂层(CL)的粘附。所提议的发明的关键方面是：a)碳化硅层(SCI)中的涂层裂缝(SC)的受控形成；和b)利用难熔金属来进行的SiC裂缝开口的共形填充。

主权项

一种用于旋转阳极类型的X射线管的轻质混合阳极盘结构，所述阳极盘结构具有阳极靶(AT)，所述阳极靶(AT)包括： 碳复合衬底盘(SUB’)， 粘附促进保护夹层(SCI)，其气相沉积于所述阳极靶的倾斜表面(IS)上的环形范围，随后是附着于所述碳化硅夹层的顶部上的难熔金属外涂层(RML)，以及 高Z涂层(CL)，其沉积于所述难熔金属外涂层(RML)的顶部上，所述涂层在暴露于具有足够的动能的入射X射线束时形成X射线发射焦点轨迹(FT)。