[发明专利]膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法无效
| 申请号： | 200980151252.1 | 申请日： | 2009-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN102257045A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | 屋良卓也;松崎纯一;川崎真一;山本真矢;野上光秀;中野良宪;长谷川平 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08J7/18 | 分类号： | C08J7/18;B32B27/16;G02B5/30 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 蒋亭 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种膜的表面处理方法及装置以及偏振片的制造方法。将与易粘接性树脂膜(12)粘接的难粘接性树脂膜(11)配置在接近大气压的处理空间(22)内。通过工艺气体供给系统(3)，将含有丙烯酸(聚合性单体)蒸气的工艺气体供给到处理空间(22)。在等离子体处理部(2)，将工艺气体等离子体化并使其与难粘接性树脂膜(11)接触。设定工艺气体的供给流量，以使处理空间(22)内的氧浓度达到3000ppm以下。由此，可以提高难粘接性树脂膜的粘接性，进而能够进行高速处理。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 方法 装置 以及 偏振 制造 | ||
【主权项】：
一种膜表面处理方法，对与易粘接性树脂膜粘接的难粘接性树脂膜的表面进行处理，所述膜表面处理方法的特征在于，利用等离子体使聚合性单体活化并使其与配置在接近大气压的处理空间的所述难粘接性树脂膜反应，将所述处理空间内的氧浓度设定为3000ppm以下。
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