[发明专利]包含聚(羟基芳基羧酸乙烯酯)的辐射敏感组合物和元件有效
| 申请号： | 200980151905.6 | 申请日： | 2009-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN102256792A | 公开（公告）日： | 2011-11-23 |
| 发明（设计）人： | M·勒瓦龙;G·布里纳;V·卡佩;L·波斯特;M·鲁宾;T·库特塞 | 申请（专利权）人： | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号： | B41C1/10 | 分类号： | B41C1/10;C08F8/12;C08F8/14;C08F16/06;C08F18/00;C08F216/06;C08F218/00;C08F116/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘辛;李连涛 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种辐射敏感组合物可被用于制备具有改良的敏感性和耐溶剂性的阳图制版可成像元件(positive-working imageable elements)。这些元件可用于制造平版印版和印刷电路板。该组合物包含水不溶的聚合胶黏剂，其具有至少20mol％的包含羟基芳基羧酸酯基团(部分可被环状酰亚胺部分所取代)的重复单元。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 羟基 羧酸 乙烯 辐射 敏感 组合 元件 | ||
【主权项】：
阳图制版可成像元件，其包含其上具有可成像层的衬底，该可成像层包含水不溶性聚合胶黏剂和辐射吸收化合物，其中所述聚合胶黏剂包含占总重复单元至少20mol％的具有悬挂羟基芳基羧酸酯基团的重复单元。
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